| 起源の場所: | 山東 |
|---|---|
| ブランド名: | OEM |
| 証明: | ISO9001 |
| モデル番号: | N/M |
| 最小注文数量: | 100キログラム |
| 価格: | negotiation |
| パッケージの詳細: | 30lb - 926Lシリンダー パッケージ |
| 受渡し時間: | 7-10日 |
| 支払条件: | ウェスタン・ユニオン、L/C、T/T |
| 供給の能力: | 50Ton |
| 臭気:: | 無臭 | 色: | 無色 |
|---|---|---|---|
| 空気及び水反作用: | 非常に可燃性ガス。まさに有毒物質。吸入によるまさに有毒物質。CONFENEMENTの下で熱されたら爆発の危険。 | シリンダー証明書:: | GB、ISOのセリウム、点 |
| 供給の能力:: | 1ヶ月あたりの30トン | 適用:: | 半企業 |
| パッケージ:: | 30-1000kg/perシリンダー | シリンダー容積:: | 30LBの50LB使い捨て可能なシリンダー |
| ハイライト: | 電気ガス,専門のガスと純度 |
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腐食化学のためのC4F6ガスの環境に優しいガス
記述:
Hexafluoro 1,3ブタジエン（C4F6）は高いアスペクト レシオおよび選択率を必要とする重大な腐食プロセスの半導体デバイスの製造業のための比較的新しい腐食のガス、特にである。それは温和な環境影響と非常に高性能を結合ことはできる。このガスは産業規模で最近だけ利用できるようになり、私達は血しょう部屋とガスの伝達システムの行動の私達の所有物のデータを高める必要性を感じた。
イオン強度および絶対総イオン電流密度は純粋なC4F6とアルゴンが付いている混合物で発生した排出のための両方を測定した。さらに、測定されるCFに関連する根本的な密度の比率は複数のガス圧力およびガスの混合物の比率のためにsub-millimeter吸光光度法および光学放出分光学の測定を使用して示される。c-C4F8の比較はなされる。
このガス、の材質の適合性は標準的な材料といかにこの『エキゾチックな』ガスを示す扱うことができる。C4F6ガスの最も重要な利点は重大な次元およびならい制御を維持している間193 nmの光硬化性樹脂、hardmasksおよびいろいろなunderlayersに付随の高い選択率を要求するますます要求の高度の腐食プロセスの範囲のための示された性能から明白になる。C4F6の利点は腐食によってのような腐食プロセスを、高いアスペクト レシオの接触/、開いた高い選択率のマスク基づかせアプライド・マテリアルズの誘電性のetcherで開発されるPFCの放出データの二重ダマスカスの腐食プロセスおよび分析は論議される。
安定性および反応
| 安定性 | 馬小屋:推薦された貯蔵条件の下の馬小屋。避けるべき材料:強い酸化代理店。避けるべき条件:使用の後でさえもないピアースか焼跡を、しなさい。露出した炎か白熱材料で吹きかけてはいけない。熱、炎および火花。 |
| 危険な分解プロダクト | 危険な分解プロダクト:カーボン酸化物、水素フッ化物。 |
| 危険な重合 | 危険な重合:起こらない。 |
毒性学情報
| 露出のルート | 吸入:吸い込まれたらまさに有毒物質。皮:5月は皮を通って吸収されたら有害である。5月の原因の皮膚のかぶれ。5月の原因の凍傷。目:5月の原因の目の刺激。 |
| 露出の印そして徴候 | 私達が知る限りでは、化学薬品、物理的なの、および毒性学の特性完全に調査されなかった。 |
適用:
1. 半導体のエッチングのガスの新しい世代。
2.Perfluorocarbon接触の穴の腐食のための代わりとなるガス血しょう。
副四分の一ミクロン装置のためのプロセスをエッチングする3.Plasma:
