製品名: | Xeclのガス | 詰物ガス: | Xe、Hclおよびネオン ガスの混合物 |
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弁のタイプ: | CGA679 | 適用: | エキシマーのレーザー |
危険のクラス: | 2.2 | 満たされた容積にガスを供給しなさい: | 2000L |
ハイライト: | レーザーのガスの混合物,msdsの天燃ガス |
エキシマーのレーザーのキセノンの一塩化物のXeclの塩化水素、キセノンおよびネオン ガスの混合物
記述:
電子的に励起状態だけで安定している分子はheteronuclearならエキシマーの分子と呼ばれたり、exciplexの分子と呼ばれるかもしれない。exciplexのハロゲン化物は方式RgXの希ガス類のハロゲン化物の重要なクラスを構成する。Rgは第18族元素であり、Xはハロゲンである。
これらの分子はエネルギーがある電子ボルトの光子を出すことによって非興奮する。従って、作り出されたライトの波長は目に見えるか紫外スペクトルにある作り出した。エキシマーが形作られるとき反転分布が直接得られるのでこれらの分子の形成をもたらすかもしれない気体混合物かガスは疑似理想的なレーザー媒体である。
不安定な基底状態の他の結果はエキシマーまたはexciplex種が外的な刺激によって発生しなければならないことである(排出、電子ビーム、マイクロウェーブ、または放射によって)。少なくとも2つのガスがexciplexesを発生させるのに使用されなければならない:ハロゲン提供者および希ガス類。但し、表1に示すように、レーザーの開発へのないすべての希ガス類のhalide分子の鉛;一部はないかもしれない。多数の分子および適用は開発された。
指定:
1. 物理的性質
商品 |
キセノンの一塩化物 |
分子方式 | Xecl |
段階 | ガス |
色 |
無色 |
transortのための危険なクラス | 2.2 |
2.典型的な技術的なデータ(COA)
主要コンポーネント | |
部品 | 集中 |
Hcl | 0.1% |
キセノン | 1.9% |
ネオン | バランス |
3. パッケージ
シリンダー指定 | 目次 | 圧力 | ||||
シリンダー | 弁の出口の選択 | 立方フィート | リットル | PSIG | 棒 | |
1 | CGA679 | DISS 728 | 265 | 7500 | 2000年 | 139 |
2 | CGA679 | DISS 728 | 212 | 6000 | 2000年 | 139 |
3 | CGA679 | DISS 728 | 71 | 2000年 | 1800 | 125 |
適用:
キセノンの一塩化物はエキシマーのレーザーで使用される。XeClはまたエキシマーの州にある。