| 適用: | 248nm石版印刷プロセスおよび混合されたガスを使用してハロゲンと混合されて | CF4: | tetrafluoromethane |
|---|---|---|---|
| 国連: | 1982年 | 酸素: | o2 |
| パッケージ:: | 継ぎ目が無い鋼鉄シリンダー | 他の名前: | 酸素カーボンtetrafluorideの混合物 |
| 出現:: | 無色のガス | シリンダー容積:: | 10L、25L、40Lまたは50L |
| 等級の標準: | 電子等級の等級 | 有毒物質: | 無毒 |
| ハイライト: | 空気liquideの専門のガス,特別なガス |
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Tetrafluoromethaneの混合物の製造業者が付いているUHPのガスO2およびCF4専門のガスの混合物の酸素
記述:
異方性etch.control。空気または酸素の他のhalocarbons、また存在は、よりよい次元およびプロフィールで起因するプロセスの優秀な制御のtheTetrafluorideの結果の制御にとって有害である。高い純度Carbonor CF2conditionsは、遊離基がCF3CarbonのTetrafluorideの形に普通あるフッ素通常の状態で比較的不活性で、asphyxiantである。RFのplasmaprocessesの下。酸素とカーボンTetrafluorideがpolysilicon、二酸化ケイ素および窒化珪素をエッチングするのに使用されている。カーボンTetrafluorideはいろいろなウエファーの腐食で使用されるフッ素またはカーボン フッ化物の遊離基の源である
指定:
1. 物理的性質
| 主要コンポーネント | ||
| 部品 | 集中 | 範囲 |
| O2 | 20%年 | 19.9-20.1% |
| CF4 | バランス | |
2.典型的な技術的なデータ(COA)
| 最高の不純物 | |
| 部品 | 集中(PPM) |
| 二酸化炭素(二酸化炭素) | <1> |
| 一酸化炭素(CO) | <1> |
| 湿気(H2O) | <0> |
| 窒素(N2) | <10> |
| 酸素(O2) | <5> |
| THC (メタン) (CH4として) | <0> |
| 他のHalocarbons | <1> |
| 硫黄の六弗化物 | <1> |
| シリンダーSpecifications* | 目次 | 圧力 | |||
| シリンダー | 弁の出口の選択 | ポンド | PSIG | 棒 | |
| 2 | CGA 580 | DISS 716 | 70 | 2000年 | 139 |
適用:
| 1 |
Tetrafluoromethaneは時々低温の冷却剤として使用される。
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| 2 |
それはケイ素、二酸化ケイ素および窒化珪素のためにetchant血しょうとして単独で電子工学のmicrofabricationでまたは酸素を伴って使用される。
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| 3 |
それにまた中性子探知器で使用がある
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