| 起源の場所: | 中国 |
|---|---|
| ブランド名: | Newradar Gas |
| 証明: | ISO/DOT/GB |
| モデル番号: | N/A |
| 最小注文数量: | 1000キログラム |
| 価格: | negotiation |
| パッケージの詳細: | 標準的な輸出パッキング:プラスチック フィルムによって包まれる木パレットに立つ2つの多網が保護される各シリンダー |
| 受渡し時間: | 15-25仕事日は後あなたの支払を受け取った |
| 支払条件: | L/C、T/T、ウェスタン・ユニオン、MoneyGram |
| 供給の能力: | 1ヶ月あたりの3,00トン |
| CASいいえ。: | 2551-62-4 | EINECSいいえ:: | 200-939-8 |
|---|---|---|---|
| RIDADR: | 国連2193 2.2 | 他の名前: | カーボン六弗化物、1,1,1,2,2,2-Hexafluoroethane、Perfluoroethane、EthforaneのHalocarbon 116、PFC-116、CFC-116、R-116 |
| 出現:: | 無色の液化ガス | 国連いいえ。: | 2193 |
| 等級の標準: | 電子等級の産業等級 | 同義語: | 1,1,1,2,2,2-Hexafluoroethane;C2F6;エタン、hexafluoro-;Ethylhexafluoride;f116;F-116;FC1160;過フッ化炭化水素116 |
| 適用: | 電子工学装置、変圧器、冷凍の液体 | MF:: | C2F6 |
| ファイルMolの:: | 76-16-4.mol | ||
| ハイライト: | 電子ガス,専門のガスと純度 |
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無色の溶かされた過フッ化炭化水素/Halocarbon 116のC2F6ガスの酸素
記述:
電子ガスHexafluoroethaneは炭化水素のエタンへ過フッ化炭化水素の同等である。それは水で溶け、わずかにアルコールで溶ける僅かにnon-flammableガスである。
Hexafluoroethaneは半導体の製造業で多目的なetchantとして使用される。それは金属のケイ化物そして酸化物の選択的なエッチング対金属の基質とまたケイ素上の二酸化ケイ素のエッチングのために使用することができる。第一次アルミニウムおよび半導体の製造工業はhexafluoroethaneの主要なエミッターである。
Hexafluoroethaneは比較的不活性である。混合物は窒息が酸素の変位のために起こるかもしれないけれども、nonflammableおよび無毒である。発射するべき長期暴露か厳しい暑さの下で容器はおよびロケット激しく破裂するかもしれない。
Hexafluoroethaneは多くの場合化学的に不活性でしたり、しかし非常に活動的な金属および活動的な金属のような強い還元剤と激しく反応できる。強い酸化は温度の極端の下でと代理店かより弱い酸化代理店反応できる。
蒸気により警告しないで目まいか窒息を引き起こすかもしれない。液化ガスからの蒸気は地面に沿う空気そして広がりより最初に重い。液化ガスが付いている接触により焼跡、厳しい傷害や凍傷を引き起こすかもしれない。火は苛立っている、腐食性および/または有毒ガスを作り出すかもしれない。
指定:
1. 物理的性質
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商品 |
Hexafluoroethane |
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分子方式 |
R116 |
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CAS |
76-16-4
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国連いいえ。 |
2193
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危険なクラス |
2.2 |
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MF: |
C2F6 |
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シリンダ容積 |
40L、500L |
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満ちる重量 |
530kg/500L詰め替え式シリンダー 20kg/40L詰め替え式シリンダー |
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貯蔵および交通機関 |
45Cの下の使用、店および輸送。涼しく、well-ventilated区域の店。火、熱、日光および可燃性の物質から保ちなさい。ガス ポンプおよび付属品への損傷を避けるために荷を積み、荷を下した場合注意深のハンドル。 |
2.典型的な技術的なデータ
| 純度、% | ≥99.8 |
| 湿気、PPM | ≤10 |
| 酸味、PPM | ≤1 |
| 蒸気残余、PPM | ≤100 |
| 出現 | 無色、turbid |
| 臭気 | 奇妙な悪臭無し |
| 分子量 | 66.1 |
| 沸点、°C | -24.7 |
| 臨界温度、°C | 113.5 |
| 臨界圧、Mpa | 4.58 |
| 液体、30°Cの比熱、[KJ/（kg°C）] | 1.68 |
| ODP | 0 |
| GWP | 0.014 |
適用:
| 多機能のエッチングの技術 |
Hexafluoroethaneは半導体の製造業で多目的なetchantとして使用される。それは金属のケイ化物そして酸化物の選択的なエッチング対金属の基質とまたケイ素上の二酸化ケイ素のエッチングのために使用することができる。第一次アルミニウムおよび半導体の製造工業はhexafluoroethaneの主要なエミッターである。
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| 冷却剤 |
trifluoromethaneとともにそれは冷却剤R508A （61%）およびR508B （54%）で使用される。
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