適用: | 248nm石版印刷プロセスおよび混合されたガスを使用してハロゲンと混合されて | CASいいえ。: | 7439-90-9 |
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国連: | 1982年 | 純度:: | 99.999% |
パッケージ:: | 継ぎ目が無い鋼鉄シリンダー | 他の名前: | 酸素カーボンtetrafluorideの混合物 |
出現:: | 無色のガス | シリンダー容積:: | 10L、25L、40Lまたは50L |
等級の標準: | 電子等級の等級 | 有毒物質: | 無毒 |
ハイライト: | 空気プロダクト専門のガス,空気liquideの専門のガス |
国連カーボンTetrafluorideが付いている1982年の専門のガスの混合物20%の酸素
記述:
専門のガスの混合物
カーボンTetrafluorideはいろいろなウエファーのetchprocessesで使用されるフッ素またはカーボン フッ化物の遊離基の源である。酸素とカーボンTetrafluorideがpolysilicon、二酸化ケイ素および窒化珪素をエッチングするのに使用されている。
カーボンTetrafluorideは通常の状態で比較的不活性で、asphyxiantである。RF血しょう状態の下で、フッ素の遊離基はCF3の形に普通ある
またはCF2。よりよい次元およびならい制御で起因するプロセスの優秀な制御の高い純度のCarbonTetrafluorideの結果。
空気または酸素の他のhalocarbons、また存在は、異方性腐食の制御にとって有害である。
指定:
1. 物理的性質
主要コンポーネント | ||
部品 | 集中 | 範囲 |
O2 | 20%年 | 19.9-20.1% |
CF4 | バランス |
2.典型的な技術的なデータ(COA)
最高の不純物 | |
部品 | 集中(PPM) |
二酸化炭素(二酸化炭素) | <1> |
一酸化炭素(CO) | <1> |
湿気(H2O) | <0> |
窒素(N2) | <10> |
酸素(O2) | <5> |
THC (メタン) (CH4として) | <0> |
他のHalocarbons | <1> |
硫黄の六弗化物 | <1> |
シリンダーSpecifications* | 目次 | 圧力 | |||
シリンダー | 弁の出口の選択 | ポンド | PSIG | 棒 | |
2 | CGA 580 | DISS 716 | 70 | 2000年 | 139 |
適用:
1 |
Tetrafluoromethaneは時々低温の冷却剤として使用される。
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2 |
それはケイ素、二酸化ケイ素および窒化珪素のためにetchant血しょうとして単独で電子工学のmicrofabricationでまたは酸素を伴って使用される。
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3 |
それにまた中性子探知器で使用がある
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