| 起源の場所: | 中国 |
|---|---|
| ブランド名: | Accept OEM |
| 証明: | ISO9001 |
| モデル番号: | いいえ |
| 最小注文数量: | 30KGS |
| 価格: | negotiation |
| パッケージの詳細: | 30lb - 926Lシリンダー パッケージ |
| 受渡し時間: | 5-10日 |
| 供給の能力: | 30TON |
| CASいいえ:: | 685-63-2 | 他の名前:: | 1,1,2,3,4,4-hexafluorbuta-1,3-dieen |
|---|---|---|---|
| 危険のクラス: | 2.3 | 原産地:: | ウーハン |
| 純度:: | 99.9% | 適用:: | 半導体の企業 |
| 銘柄:: | Newradar | Beschrijving: | Toxischのontvlambaarガス |
| ハイライト: | 電気ガス、専門のガスと純度,purity plus specialty gases |
||
純度は半導体の企業で99.9% Hexafluoro-2-butyne、使用する。
記述:
Hexafluoro1,3 ‐のbutadineは有毒な、無色、無臭の、可燃性の溶かされた圧縮されたガスである。
高いアスペクト レシオの接触の穴のエッチングのためのetchantガスとしてC4F6ガスはよい場合もある
PFCのガスへの代わり。
ロシアで開発したhexafluoro 1,3ブタジエン（C4F6）の乾式食刻のガス。C4F6は90 nm狭いの線幅で乾式食刻をまたはより少なく可能にする。従ってそれは処理システムLSIsのために不可欠および高速、デジタル電気電気器具および液晶表示装置でますます使用される大容量のメモリ素子、記憶装置である。
過フッ化炭化水素のガスは酸化膜ケイ素を処理するために広く利用されている。現在130 nmの線幅で処理のために使用されるoctafluorocyclobutane （C4F8）と比較されてC4F6に次の利点がある:
大気の2日以下に分解するように1.Very低い環境の負荷（C4F8のための3,200年と比較される）
高い地球温暖化の潜在性のperfluorocarbonsに代わりとして有用な2.Therefore。
狭く、深い溝に終る3.Highアスペクト レシオ、（非常に狭い線幅で処理のために適した）。
4.High選択率（酸化膜ケイ素のエッチングだけを保障する;光硬化性樹脂、シリコン基板または窒化物のフィルムに影響を与えない）
Fysischeはeigenschappen
| Aggregatietoestand | gasvormig |
| Dichtheid | （bij 15°C） 1,427 g/cmの³ |
| Kookpunt | ca. -130の°C |
| Smeltpunt | ca. -130の°C |
| Dampdruk | ca. 6の°C |
| Onoplosbaar | （bij 20°C） 178.800 Pa |
適用:
1. C4F6はまた一種の単量体として使用することができる。
2. それは材料操作を処理する半導体で使用できる
