| CAS番号:: | compenonetによって決まりなさい | その他の名前:: | allegretto 400 |
|---|---|---|---|
| 純度:: | 99.9%-99.999% | 外見:: | 色のないもの |
| Application:: | 工業 | Name: | エキシマー レーザーのガス |
Alcon allegretto wavelight 400HZ用プレミックスガス 20L スペイン市場向け
レーザーガス混合物
プレミックスガス
装置:Alcon allegretto wavelight 400HZ 20L Din8
担当者:Suyee Su
| ブランド | 波長 | シリンダー | バルブ |
| COHERENT | 193nm | 20 L | DIN 8 |
| Bausch+Lomb(B & L) | 193nm | 20 L/50 L | DIN 8/ DIN 14 |
| ZEISS | 193nm | 10L/20 L | DIN 8 |
| VISX | 193nm | 16 L | CGA 679 |
| NIDEK | 193nm | 16 L | CGA 679 |
| LASERSIGHT | 193nm | 10 L | CGA 679 |
| Alcon | 193nm | 16 L/20L | CGA 679/DIN 8 |
| SCHWIND | 193nm | 20 L | DIN 8/ DIN 14 |
| SUMMIT | 193nm | 16 L | CGA 679 |
当社のレーザー混合ガスは数百種類あり、角膜アブレーション、処方レンズマーキング、光学センサー製造、タンパク質研究、FBGライティングなど、UVアプリケーション向けの幅広いレーザー装置に貢献しています。透明なプラスチックからダイヤモンドまで、あらゆる材料をアブレーションします。
| 高出力エキシマレーザーガス | ||
| 利用可能な波長 | 193 nm | ArF |
| 248 nm | KrF | |
| 308 nm | XeCl | |
| 450nm~520nm | XeF | |
| 最大紫外線出力 | 540 W | |
| 最大紫外線エネルギー | 1100 mj | |
| 繰り返し周波数 | 可変, 1~600 Hz | |
| パルス安定性 | 0.5%~1%,rms | |
| 長期ドリフト | 0.1%~0.5%,rms | |
| ビーム分布 | 均一、フラットトップ | |
| パルス幅 | 10~20 ns | |
| 相関ガス純度 | F2、99.9% Ar、99.9999% He、99.9999% Ne、99.9999% HCl、電子グレード Kr、99.999% Xe、99.999% O2、99.999% H2、99.999% |
|
| ガス動作温度 | - 40 0C ~ + 74 0C | |
| ガス圧力 | 520 psig ~ 2400 psig / 35 Bar ~ 167 Bar | |
| シリンダー仕様 | 10L,16L,20L,50L | |
| バルブインターフェース | CGA 679,CGA 330,CGA 580,DIN 6,DIN 8,DIN 14 | |