| 起源の場所: | 中国 |
|---|---|
| ブランド名: | Newradar Gas |
| 証明: | ISO/DOT/GB |
| モデル番号: | N/A |
| 最小注文数量: | 1PCS |
| 価格: | 交渉可能 |
| パッケージの詳細: | 詰められたin10L-50Lシリンダーまたは要求に従って詰められて。 |
| 受渡し時間: | お支払いを受け取ってから25営業日 |
| 支払条件: | L/C、T/T、ウェスタン・ユニオン、MoneyGram |
| 供給の能力: | 1ヶ月あたりの500 PC |
| 製品名: | アルゴンのフッ化物の混合物 | 詰物ガス: | アルゴン、ネオンおよびフッ素のガスの混合物 |
|---|---|---|---|
| 弁のタイプ: | CGA679 | 適用: | エキシマーのレーザー |
| シリンダー容積: | 4-50Lまたはカスタマイズするため | 詰物圧力: | 1800-2000 Psig |
| ハイライト: | レーザーのガスの混合物,msdsの天燃ガス |
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注文のエキシマー レーザーは193nm石版印刷のためのアルゴンのフッ化物 レーザーにガスを供給する
記述:
アルゴンのフッ化物の混合物は不活性ガスの混合物と共に193のnmの石版印刷の適用で、通常使用される。
アルゴンのフッ化物 レーザーは時々exciplexレーザーと呼ばれるエキシマー レーザーの特定の種類である。193ナノメーターの波長によって、それは半導体の集積回路の生産、目の外科で一般的の深く紫外レーザーmicromachining、および科学研究であり。言葉のエキシマーはexciplexは「興奮する複合体」のために短いが、「興奮する二量体」のために短い。エキシマー レーザーは普通第18族元素の混合物を使用し、電気刺激および高圧の適した条件の下で、紫外範囲の凝集性の刺激された放射を出すハロゲン ガス。
ArFのエキシマーのレーザーは高解像の写真平版機械、マイクロエレクトロニック破片の製造業に必要な重大な技術の1で広く利用されている。エキシマー レーザーの石版印刷はトランジスター形状が2012年に1990年から22ナノメーターの800ナノメーターから縮まることを可能にした。
指定:
1. 物理的性質
| 商品 | アルゴンのフッ化物のガス |
| 分子方式 | ArF |
| 段階 | ガス |
| 色 |
無色 |
| transortのための危険なクラス | 2.2 |
2.典型的な技術的なデータ（COA）
| 主要コンポーネント | |||
| 部品 | 集中 | 範囲 | |
| フッ素 | 1.0% | 0.9-1.0% | |
| アルゴン | 3.5% | 3.4-3.6% | |
| ネオン | バランス | ||
| Maxinumの不純物 | |||
| 部品 | 集中（ppmv） | ||
| 二酸化炭素（二酸化炭素） | <5> | ||
| 一酸化炭素（CO） | <1> | ||
| カーボンTetrafluoride （CF4） | <2> | ||
| カルボニルのフッ化物（COF2） | <2> | ||
| ヘリウム（彼） | <8> | ||
| 湿気（H2O） | <25> | ||
| 窒素（N2） | <25> | ||
| 窒素の三フlト化物（NF3） | <1> | ||
| 酸素（O2） | <25> | ||
| ケイ素のTetrafluoride （SiF4） | <2> | ||
| 硫黄の六弗化物（SF6） | <1> | ||
| THC （メタン） （CH4として） | <1> | ||
| キセノン（Xe） | <10> | ||
3. パッケージ
| シリンダー指定 | 目次 | 圧力 | ||||
| シリンダー | 弁の出口の選択 | 立方フィート | リットル | PSIG | 棒 | |
| 1 | CGA679 | DISS 728 | 265 | 7500 | 2000年 | 139 |
| 2 | CGA679 | DISS 728 | 212 | 6000 | 2000年 | 139 |
| 3 | CGA679 | DISS 728 | 71 | 2000年 | 1800 | 125 |
適用:
アルゴンのフッ化物の混合物は不活性ガスの混合物と共に193のnmの石版印刷の適用で、通常使用される。
