製品名: | アルゴンのフッ化物の混合物 | 詰物ガス: | アルゴン、ネオンおよびフッ素のガスの混合物 |
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弁のタイプ: | CGA679 | 適用: | エキシマーのレーザー |
シリンダー容積: | 4-50Lまたはカスタマイズするため | 詰物圧力: | 1800-2000 Psig |
ハイライト: | レーザーのガスの混合物,msdsの天燃ガス |
注文のエキシマー レーザーは193nm石版印刷のためのアルゴンのフッ化物 レーザーにガスを供給する
記述:
アルゴンのフッ化物の混合物は不活性ガスの混合物と共に193のnmの石版印刷の適用で、通常使用される。
アルゴンのフッ化物 レーザーは時々exciplexレーザーと呼ばれるエキシマー レーザーの特定の種類である。193ナノメーターの波長によって、それは半導体の集積回路の生産、目の外科で一般的の深く紫外レーザーmicromachining、および科学研究であり。言葉のエキシマーはexciplexは「興奮する複合体」のために短いが、「興奮する二量体」のために短い。エキシマー レーザーは普通第18族元素の混合物を使用し、電気刺激および高圧の適した条件の下で、紫外範囲の凝集性の刺激された放射を出すハロゲン ガス。
ArFのエキシマーのレーザーは高解像の写真平版機械、マイクロエレクトロニック破片の製造業に必要な重大な技術の1で広く利用されている。エキシマー レーザーの石版印刷はトランジスター形状が2012年に1990年から22ナノメーターの800ナノメーターから縮まることを可能にした。
指定:
1. 物理的性質
商品 | アルゴンのフッ化物のガス |
分子方式 | ArF |
段階 | ガス |
色 |
無色 |
transortのための危険なクラス | 2.2 |
2.典型的な技術的なデータ(COA)
主要コンポーネント | |||
部品 | 集中 | 範囲 | |
フッ素 | 1.0% | 0.9-1.0% | |
アルゴン | 3.5% | 3.4-3.6% | |
ネオン | バランス | ||
Maxinumの不純物 | |||
部品 | 集中(ppmv) | ||
二酸化炭素(二酸化炭素) | <5> | ||
一酸化炭素(CO) | <1> | ||
カーボンTetrafluoride (CF4) | <2> | ||
カルボニルのフッ化物(COF2) | <2> | ||
ヘリウム(彼) | <8> | ||
湿気(H2O) | <25> | ||
窒素(N2) | <25> | ||
窒素の三フlト化物(NF3) | <1> | ||
酸素(O2) | <25> | ||
ケイ素のTetrafluoride (SiF4) | <2> | ||
硫黄の六弗化物(SF6) | <1> | ||
THC (メタン) (CH4として) | <1> | ||
キセノン(Xe) | <10> |
3. パッケージ
シリンダー指定 | 目次 | 圧力 | ||||
シリンダー | 弁の出口の選択 | 立方フィート | リットル | PSIG | 棒 | |
1 | CGA679 | DISS 728 | 265 | 7500 | 2000年 | 139 |
2 | CGA679 | DISS 728 | 212 | 6000 | 2000年 | 139 |
3 | CGA679 | DISS 728 | 71 | 2000年 | 1800 | 125 |
適用:
アルゴンのフッ化物の混合物は不活性ガスの混合物と共に193のnmの石版印刷の適用で、通常使用される。